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LCOS技術(shù)賞析
更新時(shí)間:2007-10-9 14:28:41 。 編輯:隨云 )
內(nèi)容導(dǎo)航:
第1頁(yè):LCOS技術(shù)概述
第2頁(yè):LCOS技術(shù)原理
第3頁(yè):LCOS技術(shù)特點(diǎn)
第4頁(yè):LCOS技術(shù)優(yōu)缺點(diǎn)
LCOS技術(shù)特點(diǎn)
LCOS是在傳統(tǒng)的LCD基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的,它繼承了LCD技術(shù)的優(yōu)點(diǎn),同時(shí)也克服了LCD的不足之處,所以LCOS擁有諸多LCD所不具備的優(yōu)點(diǎn)。
1. 首先LCD是在石英玻璃基板上生長(zhǎng)多晶硅,利用半導(dǎo)體技術(shù)在多晶硅(poly-silicon)上制作象素CMOS有源驅(qū)動(dòng)電路和存儲(chǔ)電容,這樣無(wú)疑會(huì)占用象素一定的面積,導(dǎo)致開(kāi)口率的。像素的開(kāi)口率達(dá)到96%。(LCD一般是85%)。因此圖像畫(huà)面沒(méi)有像素感,畫(huà)面邊緣更自然。
2. 由于多晶硅(P-LCD)中電子遷移速率低,渡越時(shí)間比較長(zhǎng),所以顯示畫(huà)面會(huì)有延遲,直接影響到畫(huà)面的刷新速率。而在LCOS技術(shù)中,采用反射式結(jié)構(gòu),渡越時(shí)間大大減少,顯示畫(huà)面延時(shí)和DLP技術(shù)相同,為12ms,而P-LCD的延時(shí),在20ms左右。
3. 其次,LCOS是反射式顯示技術(shù),可以避免LCD由于光源長(zhǎng)時(shí)間的照射溫升而導(dǎo)致LCD面板局部灼傷的問(wèn)題。
4. LCOS的驅(qū)動(dòng)電路做在反射電極下面,芯片的像素分辨率可以做得很高,通常LCOS的基本分辨率為1400×1050,而LCD和DLP的常規(guī)分辨率為1024×768。
5. LCOS的芯片為0.7",而P-LCD的顯示芯片為1.3",LCD面板尺寸過(guò)大,制作工藝難以保證顏色大面積的均勻性。
6. 體積。篖COS可將驅(qū)動(dòng)IC等外圍線路完全整合至CMOS基板上,減少外圍IC以及引線的數(shù)目,降低了封裝成本,并使體積縮小,一般XGA(1024×768)TFT-LCD的外圍引線達(dá)到2500多條。
7. LCOS以單晶硅基板上的CMOS點(diǎn)陣取代多晶硅TFT點(diǎn)陣。相比之下,前者生產(chǎn)技術(shù)更為成熟。LCOS的整個(gè)工藝,可以分為前道的半導(dǎo)體CMOS制造和后道的夜景面板貼合封裝過(guò)程。前道(0.35mm半導(dǎo)體工藝)CMOS電路設(shè)計(jì)、仿真、制造及測(cè)試技術(shù)都已經(jīng)十分成熟,目前合格率可以達(dá)到90%以上;后道的液晶屏貼合封裝過(guò)程成品率為30%,但是隨著LCOS產(chǎn)品的發(fā)展和應(yīng)用的增加,LCOS的價(jià)格下降空間還是很大的。
從與LCOS相關(guān)聯(lián)的顯示技術(shù)進(jìn)行比較,它是與高溫多晶硅HTPS-LCD顯示技術(shù),DMD(Digital Mirror Device)數(shù)字光處理顯示技術(shù)相對(duì)應(yīng)的。簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō),LCOS是直接與陰極射線顯像管(CRT)顯示技術(shù)、高溫多晶硅液晶(Ploy-Si LCD)穿透式顯示技術(shù)、DMD(Digital Micromirror Device)數(shù)字光學(xué)處理(DLP; Digital Light Projector)反射式顯示技術(shù)具有相等同的地位。這三項(xiàng)技術(shù)目前發(fā)展已經(jīng)相當(dāng)成熟,但LCOS將成為大屏幕高分辨率低成本投影顯示技術(shù)的新主流。
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